據韓科信部報道，韓美聯合研究團隊利用單原子層水平粗糙度的超平銅薄膜，在理論和實驗中首次驗證了銅的氧化原理。查明氧氣進入途徑及開發防止氧氣自行氧化的薄膜技術。相關研究成果發表在《自然》上。
經1年持續使用高分辨率透射電子顯微鏡觀測暴露在空氣中的超平銅薄膜，研究人員沒有觀察到銅表面的自然氧化物膜和原子層面的氧化。計算氧氣進入銅內部的能量變化的結果顯示，當表面粗糙度在兩個原子層以上時，氧氣很容易滲透到銅內部，但在完全平坦的表面或單原子層時，氧氣滲透需要很大能量，因此常溫下不會發生氧化。同時超平薄膜表面存在的氧氣具有始終維持在50％的自我調節功能。
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